中圖儀器國(guó)產(chǎn)NS臺(tái)階儀0.01埃分辨率，5?超高精度精準(zhǔn)測(cè)量微觀檢測(cè)微觀輪廓。搭載線性可變差動(dòng)電容傳感器（LVDC），一站式解決半導(dǎo)體、光伏、MEMS等精密制造與科研領(lǐng)域的多場(chǎng)景微觀參數(shù)檢測(cè)需求。

一、測(cè)量功能

1.臺(tái)階高度測(cè)量：精準(zhǔn)量化蝕刻、濺射、沉積、CMP等工藝的材料沉積/去除量，保障工藝穩(wěn)定性與一致性。

2.粗糙度&波紋度分析：通過(guò)微觀輪廓曲線計(jì)算多維度參數(shù)，滿足高精密產(chǎn)品質(zhì)量管控要求。

3.表面應(yīng)力檢測(cè)：兼容金屬、薄膜、微納材料等多種材質(zhì)，為材料性能評(píng)估與研發(fā)創(chuàng)新提供關(guān)鍵數(shù)據(jù)。

4.單區(qū)域快速檢測(cè)：影像導(dǎo)航定位，聚焦后一鍵啟動(dòng)，快速完成單點(diǎn)精準(zhǔn)測(cè)量，適配小批量樣品檢測(cè)。

5.多區(qū)域批量測(cè)量：陣列式掃描路徑設(shè)置，橫向縱向自由調(diào)整，批量樣品自動(dòng)完成全點(diǎn)位檢測(cè)，提升檢測(cè)效率30%以上。

6.3D可視化呈現(xiàn)：自動(dòng)完成掃描面全覆蓋檢測(cè)與3D圖像重建，微觀形貌直觀可溯，便于工藝問(wèn)題排查。

7.SPC統(tǒng)計(jì)分析：生成批量數(shù)據(jù)變化趨勢(shì)圖表，為質(zhì)量追溯與工藝優(yōu)化提供數(shù)據(jù)依據(jù)，助力精益生產(chǎn)。

二、產(chǎn)品優(yōu)勢(shì)

1.超高精度，數(shù)據(jù)無(wú)偏差

13μm量程下實(shí)現(xiàn)0.01埃分辨率，5?超高解析力，精準(zhǔn)捕捉幾納米至幾百微米的臺(tái)階形貌，為嚴(yán)苛檢測(cè)標(biāo)準(zhǔn)提供硬核數(shù)據(jù)支撐。

2.檢測(cè)全，無(wú)需多設(shè)備

同步完成臺(tái)階高度（納米-1050μm）、表面粗糙度（Ra/Rz等數(shù)十項(xiàng)參數(shù)）、膜層厚度及應(yīng)力分布測(cè)量，覆蓋工藝全流程檢測(cè)需求，簡(jiǎn)化操作流程。

3.全域適配，降低投入成本

不受被測(cè)樣品反射率、材料種類(lèi)、硬度限制，廣泛適配半導(dǎo)體、太陽(yáng)能光伏、光學(xué)加工、LED、MEMS器件等多行業(yè)，避免設(shè)備閑置浪費(fèi)。

4.智能高效，提升檢測(cè)產(chǎn)能

支持單區(qū)域、多區(qū)域批量測(cè)量及3D可視化重建，搭配SPC統(tǒng)計(jì)分析功能，批量樣品一鍵檢測(cè)，數(shù)據(jù)趨勢(shì)直觀呈現(xiàn)，減少人工干預(yù)。

三、應(yīng)用案例

中圖儀器國(guó)產(chǎn)NS臺(tái)階儀具有精準(zhǔn)、高效、適配性強(qiáng)的核心優(yōu)勢(shì)。如需針對(duì)您的行業(yè)場(chǎng)景定制測(cè)量方案、獲取詳細(xì)參數(shù)或申請(qǐng)樣品測(cè)試，歡迎隨時(shí)聯(lián)系中圖儀器。

（注：產(chǎn)品參數(shù)與功能可能隨技術(shù)升級(jí)更新，具體以實(shí)際溝通為準(zhǔn)）